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国产7nm核心技术终于突破,美日也没料到速度这么快
作者:管理员    发布于:2020-11-19 22:02:11    文字:【】【】【

国产芯片

随着华为芯片事件的持续发酵,国内所有科技公司都意识到了掌握核心技术的必要性,因为如果太过于依赖国外的供应,一旦出现了什么问题,就会处处受制。尤其是在半导体领域,芯片的自主化和国产化更是重中之重,目前国内也正在朝着这个方向发展!

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其实国内拥有很多优秀的芯片设计公司,例如华为、中兴等,它们设计出来的产品丝毫不输于国外企业。就拿华为来说,海思最新发布的麒麟9000,不仅是全球首款5nm手机SoC,还追上了苹果A14的脚步,各方面的表现都堪称顶尖!

这证明了国内的芯片设计实力已经迈入了高端水平,而华为就是最具代表性的国产芯片设计企业。既然如此,那么华为为什么会受到美国芯片规则的影响呢?这就不得不提到国内的技术难点——芯片制造了。

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虽然华为能设计出先进的芯片,但是却不具备量产的能力,需要与代工厂合作,才能完成芯片的制造工作。而美国正是看透了这一点,通过规则制约各大代工厂,导致它们无法再为华为代工任何产品,所以麒麟芯片才会出现短缺的问题。

对此,国内有心想要帮助华为,却也无能为力。因为芯片制造不仅是华为的薄弱点,同样也是国内的劣势所在。由于缺少各种精密设备和关键材料的支持,国内的芯片制造技术始终未能取得较大的进展,与国外先进水平相比还有一定的差距。

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为了改善这种情况,国内开始大力扶持半导体行业的发展,并且制定了远大的目标,计划投入数万亿资金!正所谓“重赏之下必有勇夫”,在举国支持的大环境下,最近很多公司都完成了技术突破,好消息一个接一个地传来!

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核心技术终于突破

首先,在芯片代工领域,国内最大的代工厂中芯国际已经掌握了量产7nm芯片的技术,要不了多久,国产7nm芯片就将正式登场。据了解,中芯国际的N+1工艺通过了流片测试,而且所有IP全为国产,只要再给它一段时间,量产7nm芯片轻而易举!

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其次,有了技术之后,还需要设备的支持,才能制造出芯片。光刻机是芯片制造过程中必备的机器,国内在这方面也做出了一些成绩。

据悉,国内的上海微电子能够生产出28nm的国产光刻机,预计将于明年正式交付使用。虽然与ASML的EUV光刻机相比,国产28nm光刻机并不算先进,但是已经可以满足大部分芯片的生产要求了,这是光刻机突破的一小步,却是国产芯片事业的一大步!

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最后,当技术和设备都准备好之后,最关键的就是材料,无论是芯片原材料还是光刻机工作所需的材料都至关重要。最近,国内的南大光电材料有限公司传来了好消息,国产7nm的核心技术终于突破!

据了解,此次南大光电宣布的消息与光刻胶有关,它已经建成了国内首条ArF光刻胶生产线,并且正式投入了生产。光刻胶是制造芯片的核心材料之一,没有它光刻机就无法正常工作,而ArF光刻胶则适用于28nm~7nm的芯片。

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也就是说,在南大光电生产线建成之后,国内7nm芯片的所有核心技术都取得了突破,只要拥有一台先进的光刻机,就可以实现量产。

对此,美日两国也没料到速度这么快,因为之前它们一直垄断着半导体材料市场,而现在却被南大光电打破了一个缺口!可以预料的是,未来国内还会涌现出更多的像南大光电这样的公司,美日的领先将会一去不复还!

国产7nm核心技术终于突破,美日也没料到速度这么快

写在最后

虽然目前国产7nm芯片还没有正式亮相,但是它已经在摇篮中了,很快就会成长起来。相信以后国内的芯片事业一定能获得更好的发展,最终实现崛起的伟大目标!

对此,你们怎么看呢?欢迎留言和分享!


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